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| 使用臭氧水 | 使用藥液 |
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①僅次于氟素的強(qiáng)氧化能力
去除金屬，有機(jī)物強(qiáng)力有效
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①使用鹽酸，硫酸，雙氧水等具有強(qiáng)酸性的藥液，并且藥液具有100℃左右的高溫，操作時(shí)要十分注意。 |
| ②臭氧水處理后形成氧化膜，（0.8nm左右）→晶片表面具有親水性 →晶片表面粒子數(shù)少 | ②將氨氣/雙氧水與上述①強(qiáng)酸一起使用的情況較多（為了除去粒子） |
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③臭氧成分通過自然蒸發(fā)，或者通過使用簡(jiǎn)易臭氧分解設(shè)備， 從而使工廠排水變?yōu)榭赡堋?/div>
→臭氧水易蒸發(fā)，立刻變成純水
→可以使用工廠廢水管道排放臭氧水
→純水可循環(huán)利用
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③藥液使用后，使用工廠的廢液處理設(shè)備中和處理。
→ 藥液不可循環(huán)使用
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④消耗材料價(jià)格低
→基本上只需支付氧氣費(fèi)用和電費(fèi)
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④藥液成本高。（以使用浴槽式設(shè)備清洗為例計(jì)算） |
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?半導(dǎo)體（清洗）
?FPD，液晶（清洗）
?MEMS，傳感器（清潔）
?硬盤（清洗）
?太陽能電池（清潔）
?醫(yī)療（洗手，純凈水管道清洗）
?食品（洗手，消毒，除臭）
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