比較非均相臭氧催化氧化和均相臭氧氧化的特點?
在前面文章中介紹了Fenton 氧化技術(shù)、臭氧氧化法的原理,本文繼續(xù)介紹臭氧氧化法的發(fā)展-非均相臭氧催化氧化和均相臭氧氧化。
結(jié)合物理場和投加均相或非均相催化劑可強化O3分解為自由基。其中,電場、光輻射等物理場向O3提供能量,使其激發(fā)分解為自由基,還可通過非均相或均相催化劑催化O3分解。
均相臭氧催化氧化法
Hewes 等發(fā)現(xiàn),在Fe2+、Mn2+、Ni2+ 或者Co2+ 存在下,TOC 去除率比O3單獨氧化時更高。Bhat 等利用針鐵礦催化O3氧化氯苯,發(fā)現(xiàn)比單獨氧化更為高效。這些發(fā)現(xiàn)引起了人們對臭氧催化劑的廣泛關(guān)注。目前,均相臭氧催化劑主要是一些過渡金屬,如Cu2+、Zn2+、Fe2+、Mn2+、Ni2+、Co2+ 等。均相催化O3的機理主要有2 類。一類是金屬離子直接催化O3分解,通過一系列電子轉(zhuǎn)移過程產(chǎn)生·OH。例如,以Fe2+ 作為催化劑時,它會與O3形成中間體FeO2+,與H2O 產(chǎn)生·OH,也可將Fe2+氧化為Fe3+,如式( 38) —( 40) 所示。Mn2+、Co2+、Ni2+催化O3的過程如式( 41) —( 46) 所示:
通過比較不同金屬對O3的催化過程,Wu 等總結(jié)了過渡金屬均相催化O3的總反應(yīng)式,如式( 47)所示; 當(dāng)催化劑過量時,反而會淬滅·OH 降低氧化效率,如式( 48) 所示。
另一類均相催化O3機理是金屬離子與有機物或者O3進行配位反應(yīng)而促進O3和有機物的反應(yīng)。Pines 等在pH = 6 時,采用Co2+ 催化O3氧化草酸時發(fā)現(xiàn)存在另一種非自由基的反應(yīng)路徑: 首先形成CoC2O4的絡(luò)合物,再由O3氧化為Co( C2O4) +,該中間體易分解為Co3+ 和C2O-4·,被O3、O2等氧化,如式( 49) —( 52) 所示:
與其他O3氧化法類似,均相催化O3的反應(yīng)路徑及氧化效率與介質(zhì)pH、臭氧濃度、催化劑投加量有關(guān)。一般地,均相催化反應(yīng)的效率高于非均相催化反應(yīng),但由于均相催化劑主要以溶解態(tài)存在,回收難度大,需不斷補充,一些催化劑流失可能會帶來新的環(huán)境風(fēng)險。
非均相臭氧催化氧化法
多年來,非均相催化劑的研究一直是O3氧化領(lǐng)域的熱點。通常,非均相臭氧催化劑可分成金屬氧化物( CuO、Fe2O3、MnO2、Al2O3等) 、碳基材料( CNTs、石墨烯等) 、礦物質(zhì)、黏土、蜂窩陶瓷及以上材料的相互耦合。紅外測試表明: 低溫下O3在氧化物表面存在物理吸附、與表面質(zhì)子化羥基形成氫鍵或靜電吸附、與Lewis 位點發(fā)生化學(xué)吸附形成表面氧原子。
目前,非均相催化O3機理可分為自由基介導(dǎo)和非自由基介導(dǎo),前者又可進一步分為自由基機理、氧空位機理、表面氧自由基機理等,后者主要指絡(luò)合機理。自由基機理認為,O3與氧化物表面羥基發(fā)生吸附分解產(chǎn)生·O-2和HO2·,并通過電子轉(zhuǎn)移生成·OH氧化有機分子,如式( 53) 、( 33) 、( 36) 、( 37) 所示,CeO2、Al2O3等遵循該機理。
氧空位機理認為,金屬氧化物表面存在許多晶格缺陷,這些缺陷可能影響O3的分解路徑,其中,磁性多孔尖晶石結(jié)構(gòu)MeFe2O4含有大量氧空位( Me 為金屬元素,有Ni、Mn、Co 等) 。以NiFe2O4為例,當(dāng)O3在氧化物表面發(fā)生化學(xué)吸附時,部分Ni2+ 被氧化為Ni3+,并產(chǎn)生HO-2·與·O-2,通過電子轉(zhuǎn)移產(chǎn)生·OH,晶格氧將Ni3+還原為Ni2+,自身變成O2,形成空穴,在富氧條件下,空穴導(dǎo)電將O2還原為晶格氧,完成循環(huán),如式( 54) —( 57) 所示:
表面氧自由基機理認為,對于n 型氧化物,O3在其表面吸附會生成氧自由基,其標準氧化電位為2. 42 V,高于O3,有助于氧化有機分子。
絡(luò)合機理認為,因過渡金屬具有空的d 軌道,而大部分有機物含有苯環(huán)、雙鍵等電子云密度高的官能團,二者間易于形成金屬有機配合物,O3與配合物反應(yīng)而實現(xiàn)有機分子的氧化。例如,采用CeO2負載CuO 處理草酸時發(fā)現(xiàn)Cu( Ⅱ) 會與C2O2-4形成絡(luò)合物,二價銅草酸絡(luò)合物被O3氧化為極不穩(wěn)定的三價銅草酸絡(luò)合物,在配體分子內(nèi)發(fā)生電子轉(zhuǎn)移重新形成Cu( Ⅱ) 并產(chǎn)生強還原性的C2O-4·,被O2、O氧化,如式( 58) —( 60) 所示:
可見,非均相臭氧催化劑表面的活性位點為Lewis 位點和表面含氧官能團,如表面羥基。可控性調(diào)節(jié)這2 種催化位點被認為是臭氧催化劑研究的前沿方向之一。研究發(fā)現(xiàn),通過Ti 摻雜可提高γ-Al2O3催化劑表面Lewis 位點強度,原因是Al-O-Ti 鍵的生成,由于Al 的電負性強于Ti,Al-O-Ti 鍵的電子云密度偏向Al,使Ti 表現(xiàn)出缺電子特性,Ti 的價態(tài)由摻雜前+3 上升為摻雜后的+4,即增強了表面Lewis 位點強度。
在實際工程中,該技術(shù)表現(xiàn)出較強的應(yīng)用潛力。洪浩峰等將CuO、NiO 等金屬氧化物負載在蜂窩陶瓷、活性炭、活性氧化鋁等載體上催化O3氧化印染廢水,發(fā)現(xiàn)采用活性炭負載Fe、Cu、Mn、Ni、Ba 的氧化物處理該廢水均有效果,載鐵型催化劑活性較高,在O3濃度為10 mg /L,pH = 6 的條件下,處理1 h 后,COD 去除率達到86%,且重復(fù)使用12 次后,去除率仍可達到86%。Zhang 等將焦化污泥制成生物炭催化O3降解0. 1 L 濃度為0. 2 g /L 的苯酚廢水,在催化劑量為1 g /L,O3濃度和流量分別為14 mg /L 和1 L /min 的條件下處理0. 5 h,苯酚降解率可達95. 4%,而O3單獨降解率僅為58. 2%。Wu 等采用CTAB 修飾后的NiO 催化氧化焦化廢水的生物出水,在pH= 7. 1,ρ( O3) 為30 mg /L,流量為1 L /min,催化劑投加量為2 g /L,ρ( COD) 為90 mg /L,ρ ( TOC) 為30 mg /L 的條件下,處理1 h 后UV254降低97%,7 h后TOC 去除率達到100%,且催化劑在連續(xù)重復(fù)使用5次后,礦化率依然在95%以上。Martins 等 采用Mn-Ce-O 及N-150 催化O3降解制藥廢水中的新諾明和雙氯滅痛,相比于O3單獨降解,每毫克O3可處理的COD 量由0. 067 mg 增至0. 10 mg。
非均相臭氧催化技術(shù)受催化劑及其表面性質(zhì)、pH、有機分子的性質(zhì)等因素影響。催化劑性質(zhì)如晶胞大小、比表面積、表面活性位點的數(shù)量以及零電點等,主要受制備方法及條件的影響。Zhang 等分別采用水熱法和溶膠凝膠法合成ZnFe2O4用于降解苯酚廢水,發(fā)現(xiàn)水熱法制備的ZnFe2O4具有更大的比表面積和更強的催化活性,在pH= 6. 38,ρ( O3) 為14 mg /L,流量為1 L /min,ρ( 苯酚) 為300 mg /L 的條件下,O3單獨氧化處理0. 5 h 后,苯酚去除率達到63. 4%;在相同條件下,采用溶膠凝膠法制備的催化劑催化氧化苯酚后,其去除率并無顯著提高,而采用水熱法制備的ZnFe2O4催化氧化后,苯酚去除率高達92. 6%。
pH 影響非均相催化反應(yīng)的路徑。Beltrán 等研究發(fā)現(xiàn),當(dāng)pH = 2 ~ 6 時,O3在催化劑表面吸附分解為氧原子,與H2O 生成·OH,若以S 代表催化劑表面的活性位點,反應(yīng)如式( 61) —( 64) 所示。當(dāng)pH>6時,體系中OH-在催化劑上形成表面羥基,進而催化O3生成·OH,反應(yīng)如式( 65) —( 68) 所示。另外,體系pH 與催化劑的零電點( pHPZC) 之間的關(guān)系將影響催化劑表面羥基形態(tài)及O3吸附。當(dāng)pH <pHPZC,催化劑表面羥基發(fā)生質(zhì)子化,主要以—OH+2的形式存在,更有利于O3吸附; 當(dāng)pH>pHPZC,催化劑表面羥基發(fā)生去質(zhì)子化,主要以—O- 的形式存在,分別如式( 69) —( 70) 所示:
相較于均相臭氧催化劑,非均相臭氧催化劑具有容易回收、可重復(fù)利用、成本較低、改良空間大等優(yōu)點,在去除難生物降解的有機污染物方面極具應(yīng)用潛力。
目前,臭氧氧化技術(shù)的發(fā)展方向是增強O3傳質(zhì)以提高利用率,以及提高O3轉(zhuǎn)化為·OH 的效率。從宏觀上,體現(xiàn)為新型臭氧反應(yīng)器和催化劑的研發(fā)。新型反應(yīng)器的開發(fā)方面,主要圍繞O3的原位產(chǎn)生、氣體的均勻分布、梯級利用及微氣泡應(yīng)用。催化劑方面,集中在金屬氧化物、分子篩或碳基材料的摻雜以及催化材料的形貌調(diào)控,如在沸石負載鈰、鐵、錳等氧化物,金屬摻雜于碳納米管,金屬氧化物修飾另一種金屬氧化物等。
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